巨大抵抗スイッチの論文が出版されました

東京科学大の片瀬研究室との共同研究による論文がNano Lettersから出版されました。非平衡法による薄膜合成に成功し2次元-3次元構造変化に伴う巨大抵抗変化を報告したものです。山浦研は放射光薄膜X線回折のパートを担当しました。

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